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In der industriellen Fraktografie, der Gussprüfung und der metallurgischen Qualitätssicherung stoßen klassische aufrechte Mikroskope bei massiven Werkstücken sofort an mechanische Grenzen. Der fundamentale verfahrenstechnische Vorteil des KERN OLM 171 ist seine inverse (umgekehrte) Bauweise. Die Objektive und der Fokussiertrieb befinden sich physikalisch unterhalb des massiven Kreuztisches. Diese konstruktive Architektur eliminiert Höhenbeschränkungen für das Probenmaterial vollständig. Schwere Motorenbauteile, massive Stahlbrammen oder dicke Halbleiter-Wafer können direkt auf dem Tisch platziert werden. Ein weiterer entscheidender präparativer Vorteil: Bei einem Inversmikroskop muss das Werkstück nur an der zu mikroskopierenden Unterseite absolut plan geschliffen und poliert sein. Ein aufwendiges planparalleles Ausrichten der gesamten Probengeometrie, wie es bei aufrechten Systemen zwingend erforderlich ist, entfällt komplett.
Das metrologische Herzstück des OLM 171 ist sein unendlich korrigiertes optisches System (Infinity Optics). Der von der Probenoberfläche reflektierte Photonenstrom tritt als paralleles Strahlenbündel aus dem Objektiv aus und wird erst durch eine speziell berechnete Tubuslinse zu einem reellen Bild fokussiert. Dieser parallele Strahlengang (Unendlich-Raum) ist elementar für die hochpräzise Mikroskopie: Er erlaubt die spannungs- und aberrationsfreie Integration von optischen Zusatzmodulen, wie der im System enthaltenen Polarisations- und Analysatoreinheit, ohne dass sich die optische Brennweite verschiebt oder chromatische Abbildungsfehler induziert werden.
Opake (lichtundurchlässige) metallische Strukturen erfordern eine massive koaxiale Photonendichte, um mikroskopische Kornstrukturen oder Risskanten (Lunker) aufzulösen. Das System ist mit einer extrem leistungsstarken 50-Watt-Halogen-Auflichtbeleuchtung (Epi-Illumination) ausgestattet. Um die bei spiegelnden Metallschliffen unweigerlich auftretende Überstrahlung (Glare) physikalisch zu blockieren, wird der Polarisator in den Strahlengang geschwenkt, welcher die transversalen Lichtwellen in eine definierte Schwingungsebene zwingt. Die Reflexion an der Kristallstruktur der Metallprobe verändert diesen Polarisationszustand. Der Analysator filtert diffuse Glanzreflexe heraus und macht optische Spannungsdoppelbrechungen sowie heterogene Legierungsphasen mit maximalem Phasenkontrast sichtbar.
Um die für die Metallurgie typischen planen Schliffoberflächen geometrisch fehlerfrei abzubilden, ist das Mikroskop mit planachromatischen LWD-Objektiven (Long Working Distance) ausgestattet. Diese hochkomplexen Linsensysteme ebnen das Bildfeld, sodass sowohl das Zentrum als auch die Randbereiche des massiven Werkstücks gleichzeitig absolut scharf fokussiert sind. Der trinokulare Tubus ermöglicht neben der binokularen visuellen Inspektion die zeitgleiche, verlustfreie Auskopplung des optischen Signals an eine digitale C-Mount-Mikroskopkamera. Dies ist für die lückenlose Messung von Korngrößen und die softwarebasierte Dokumentation im QM-Bereich zwingend erforderlich.
Der trinokulare Strahlengang des OLM 171 ist für die direkte Adaption einer digitalen Messkamera (z. B. aus der KERN ODC-Serie) vorbereitet. Um softwarebasierte Längen-, Flächen- oder Winkelmessungen (Metrologie) an Ihren Metallstrukturen exakt durchzuführen, ist die Kamera in Verbindung mit einem Objektmikrometer zur Systemkalibrierung unerlässlich. Für spezielle tribologische Untersuchungen oder extrem hochvergrößernde Analysen beraten wir Sie gerne zu zusätzlichen LWD-Objektiven (z.B. 100x). Wenden Sie sich für die Konfiguration Ihres digitalen optoelektronischen Messplatzes jederzeit an unseren Beschaffungsservice.
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