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In der industriellen Werkstoffprüfung, der Halbleiterinspektion und der Gussanalyse stellen schwere, großvolumige oder asymmetrische Proben herkömmliche aufrechte Mikroskopsysteme vor unlösbare mechanische Probleme. Das KERN OLM 170 eliminiert diese limitierenden räumlichen Beschränkungen durch seine inverse (umgekehrte) Systemarchitektur. Die planachromatischen Objektive und die Fokussiermechanik sind physikalisch unterhalb des groß dimensionierten Kreuztisches positioniert. Dies erlaubt die direkte Auflage von massiven Motorblöcken, dicken Stahlbrammen oder schweren Leiterplatten ohne jegliche Höhenlimitierung. Verfahrenstechnisch reduziert dies den Präparationsaufwand enorm: Das Werkstück muss lediglich an der zu mikroskopierenden Unterseite absolut plan geschliffen und poliert werden. Ein aufwendiges planparalleles Ausrichten des gesamten Probenkörpers zur optischen Achse entfällt physikalisch vollständig.
Im absoluten Gegensatz zu Systemen mit thermischen Halogenstrahlern basiert das OLM 170 auf modernster Halbleiterphysik. Das System ist mit einer leistungsstarken, koaxialen 5-Watt-LED-Auflichtbeleuchtung ausgestattet. Die Lumineszenzdiode emittiert ein hochintensives, absolut flimmerfreies und farbneutrales Photonenspektrum mit extrem geringem Wärmeanteil. Diese kalte Lichtquelle verhindert die thermische Ausdehnung der mechanischen Mikroskopbauteile (thermospatialer Drift) und schützt wärmeempfindliche Halbleiterwafer vor thermomechanischem Stress. Das koaxiale Auflicht wird über einen teildurchlässigen Strahlenteiler exakt in die optische Achse eingespiegelt, durchläuft das Objektiv als Kondensor und wird von der opaken Metalloberfläche direkt in das Tubussystem reflektiert.
Das metrologische Fundament des OLM 170 bildet sein unendlich korrigiertes Linsensystem (Infinity Optics). Die von der Festkörperprobe reflektierten Lichtwellen verlassen das Objektiv als parallele Strahlenbündel. Erst eine im trinokularen Mikroskopkopf verbaute Tubuslinse fokussiert diese Photonen zu einem scharfen, reellen Zwischenbild. Der physikalische Raum der parallelen Strahlung zwischen Objektiv und Tubuslinse ermöglicht die verzerrungs- und aberrationsfreie Integration von optischen Störkörpern, wie der mitgelieferten Polarisations- und Analysatoreinheit. Das System bleibt dabei lückenlos frei von induzierten chromatischen Aberrationen oder Brennweitenverschiebungen.
Bei der Auflichtbetrachtung von hochglanzpolierten Metallschliffen führt gerichtetes Licht unweigerlich zu massiven Reflexionen (Glare). Das OLM 170 durchbricht dieses Phänomen mit seinem integrierten Polarisationssystem. Der Polarisator zwingt die Lichtwellen in eine lineare Schwingungsebene, während der gekreuzte Analysator diffuse Glanzreflexe physikalisch blockiert. Dies maximiert den Phasenkontrast und macht Spannungsdoppelbrechungen, Mikrorisse und heterogene Legierungsgrenzen sichtbar. Um diese Strukturen metrologisch zu dokumentieren, verfügt das Mikroskop über einen trinokularen Tubus mit einem rückseitig vormontierten C-Mount-Adapter. Dieser ermöglicht die direkte, fluchtende Adaption einer digitalen Mikroskopkamera, während ein interner Lichtteiler (20:80) die zeitgleiche Inspektion am Okular erlaubt.
Der trinokulare Strahlengang mit dem bereits vormontierten C-Mount-Adapter macht das OLM 170 zur idealen Basis für die digitale Metrologie. Um Längen, Flächen oder Winkel in Ihren Schlifffotografien pixelgenau zu vermessen, empfehlen wir die Kombination mit einer kalibrierten digitalen Mikroskopkamera (z. B. der KERN ODC-Serie) und einem passenden Objektmikrometer. Wenden Sie sich für die optoelektronische Konfiguration Ihres Messplatzes jederzeit an unseren Beschaffungsservice.
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