In der industriellen Fraktografie, der Gusspr\u00fcfung und der metallurgischen Qualit\u00e4tssicherung sto\u00dfen klassische aufrechte Mikroskope bei massiven Werkst\u00fccken sofort an mechanische Grenzen. Der fundamentale verfahrenstechnische Vorteil des KERN OLM 171 ist seine inverse (umgekehrte) Bauweise. Die Objektive und der Fokussiertrieb befinden sich physikalisch unterhalb des massiven Kreuztisches. Diese konstruktive Architektur eliminiert H\u00f6henbeschr\u00e4nkungen f\u00fcr das Probenmaterial vollst\u00e4ndig. Schwere Motorenbauteile, massive Stahlbrammen oder dicke Halbleiter-Wafer k\u00f6nnen direkt auf dem Tisch platziert werden. Ein weiterer entscheidender pr\u00e4parativer Vorteil: Bei einem Inversmikroskop muss das Werkst\u00fcck nur an der zu mikroskopierenden Unterseite absolut plan geschliffen und poliert sein. Ein aufwendiges planparalleles Ausrichten der gesamten Probengeometrie, wie es bei aufrechten Systemen zwingend erforderlich ist, entf\u00e4llt komplett.<\/p>\n
Das metrologische Herzst\u00fcck des OLM 171 ist sein unendlich korrigiertes optisches System (Infinity Optics). Der von der Probenoberfl\u00e4che reflektierte Photonenstrom tritt als paralleles Strahlenb\u00fcndel aus dem Objektiv aus und wird erst durch eine speziell berechnete Tubuslinse zu einem reellen Bild fokussiert. Dieser parallele Strahlengang (Unendlich-Raum) ist elementar f\u00fcr die hochpr\u00e4zise Mikroskopie: Er erlaubt die spannungs- und aberrationsfreie Integration von optischen Zusatzmodulen, wie der im System enthaltenen Polarisations- und Analysatoreinheit, ohne dass sich die optische Brennweite verschiebt oder chromatische Abbildungsfehler induziert werden.<\/p>\n
Opake (lichtundurchl\u00e4ssige) metallische Strukturen erfordern eine massive koaxiale Photonendichte, um mikroskopische Kornstrukturen oder Risskanten (Lunker) aufzul\u00f6sen. Das System ist mit einer extrem leistungsstarken 50-Watt-Halogen-Auflichtbeleuchtung (Epi-Illumination) ausgestattet. Um die bei spiegelnden Metallschliffen unweigerlich auftretende \u00dcberstrahlung (Glare) physikalisch zu blockieren, wird der Polarisator in den Strahlengang geschwenkt, welcher die transversalen Lichtwellen in eine definierte Schwingungsebene zwingt. Die Reflexion an der Kristallstruktur der Metallprobe ver\u00e4ndert diesen Polarisationszustand. Der Analysator filtert diffuse Glanzreflexe heraus und macht optische Spannungsdoppelbrechungen sowie heterogene Legierungsphasen mit maximalem Phasenkontrast sichtbar.<\/p>\n
Um die f\u00fcr die Metallurgie typischen planen Schliffoberfl\u00e4chen geometrisch fehlerfrei abzubilden, ist das Mikroskop mit planachromatischen LWD-Objektiven (Long Working Distance) ausgestattet. Diese hochkomplexen Linsensysteme ebnen das Bildfeld, sodass sowohl das Zentrum als auch die Randbereiche des massiven Werkst\u00fccks gleichzeitig absolut scharf fokussiert sind. Der trinokulare Tubus erm\u00f6glicht neben der binokularen visuellen Inspektion die zeitgleiche, verlustfreie Auskopplung des optischen Signals an eine digitale C-Mount-Mikroskopkamera. Dies ist f\u00fcr die l\u00fcckenlose Messung von Korngr\u00f6\u00dfen und die softwarebasierte Dokumentation im QM-Bereich zwingend erforderlich.<\/p>\n
Der trinokulare Strahlengang des OLM 171 ist f\u00fcr die direkte Adaption einer digitalen Messkamera (z. B. aus der KERN ODC-Serie) vorbereitet. Um softwarebasierte L\u00e4ngen-, Fl\u00e4chen- oder Winkelmessungen (Metrologie) an Ihren Metallstrukturen exakt durchzuf\u00fchren, ist die Kamera in Verbindung mit einem Objektmikrometer zur Systemkalibrierung unerl\u00e4sslich. F\u00fcr spezielle tribologische Untersuchungen oder extrem hochvergr\u00f6\u00dfernde Analysen beraten wir Sie gerne zu zus\u00e4tzlichen LWD-Objektiven (z.B. 100x). Wenden Sie sich f\u00fcr die Konfiguration Ihres digitalen optoelektronischen Messplatzes jederzeit an unseren Beschaffungsservice<\/a>.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"\n